2025-10-19 14:54:13 Ni80Mo5精密软磁铁镍合金的制作工艺与泊松比
Ni80Mo5 经轧制，泊松比 0.3，含 Ni80% Mo5%。执行 GB/T 15002，适配半导体蚀刻。...
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Ni80Mo5 经轧制，泊松比 0.3，含 Ni80% Mo5%。执行 GB/T 15002，适配半导体蚀刻。...
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Ni79mo4 抗拉≥650MPa，熔点 1500℃，含 Ni79% Mo4%。执行 GB/T 15002，适配雷达屏蔽。...
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Ni77Mo4Cu5 经 750℃退火，300℃抗氧化。执行 GB/T 15002，适配半导体蚀刻。...
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Ni50 抗应力集中，断裂韧度≥25MPa・m¹/²，含 Ni50% Fe。执行 GB/T 15002，适配电磁继电器。...
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Co50V2 弯曲强度≥800MPa，疲劳寿命≥10⁷次，含 Co50% V2%。执行 GB/T 15002。...
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